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无尘室
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无尘室(Clean Room),亦称为无尘室或清净室。它是污染控制的基础。控制空气悬浮微粒浓度,从而达到适当的微粒洁净度级别。无尘室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等之污染物排除,并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内,而所给予特别设计之房间。
无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘,而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微,但是对于光学构造而言,哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响,所以在光学构造产品的生产上,无尘是必然的要求。
如表所示,每立方米将小于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下,就达到了国际无尘标准的A级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级,这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内,这也就是业内俗称的1K级别。
相关概念
⑴、自净时间:是指无尘室按设计换气次数开始送风到无尘室,室内含尘浓度达到所设计的净化级别的时间。1,000级希望不超过20min(分钟) (可取15min计算) 10,000级希望不超过30min(分钟) (可取25min计算) 100,000级希望不超过40min(分钟) (可取30min计算)
⑵、换气次数(按上述自净时间要求设计)1,000级 43.5—55.3次/小时 (规范:50次/小时) 10,000级 23.8—28.6次/小时 (规范:25次/小时) 100,000级 14.4—19.2次/小时 (规范:15次/小时)
用途分类
⑴ 、工业无尘室
——以无生命微粒的控制为对象。主要控制空气尘埃微粒对工作对象的污染,内部一般保持正压状态。它适用于精密机械工业、电子工业、半导体、集成电路等)宇航工业、高纯度化学工业、原子能工业、光磁产品工业(光盘、胶片、磁带生产)LCD(液晶玻璃)、电脑硬盘、电脑磁头生产等多行业。
⑵、生物无尘室,
主要控制有生命微粒(细菌)与无生命微粒(尘埃)对工作对象的污染。又可分为;
A、 一般生物无尘室,主要控制微生物(细菌)对象的污染。同时其内部材料要能经受各种灭菌剂侵蚀,内部一般保证正压。实质上其内部材料要能经受各种灭菌处理的工业无尘室。例:制药工业、医院(手术室、无菌病房)食品、化妆品、饮料产品生产、动物室验室、理化检验室、血站等。
B、 生物学安全无尘室:主要控制工作对象的有生命微粒对外界和人的污染。内部要保持与大气的负压。例:细菌、生物学、洁净实验室、物物工程(重组基因、疫苗制备)
一般洁净度等级说明:
等数ISO空气洁净 | 大于或等于表中粒径的最大浓度限值(P/m -空气) | 洁净等级美国联邦209E | |||||
0.1um | 0.2um | 0.3um | 0.5um | 1um | 5um | ||
ISO Class1 | 10 | 2 | |||||
ISO Class2 | 100 | 24 | 10 | 4 | |||
ISO Class3 | 1000 | 237 | 102 | 35 | 8 | 1 | |
ISO Class4 | 10000 | 2370 | 1020 | 352 | 83 | 10 | |
ISO Class5 | 100000 | 23700 | 10200 | 3520 | 832 | 29 | 100 |
ISO Class6 | 1000000 | 237000 | 102000 | 35200 | 8320 | 293 | 1000 |
ISO Class7 | 352000 | 83200 | 2930 | 10000 | |||
ISO Class8 | 3520000 | 832000 | 29300 | 100000 | |||
ISO Class9 | 35200000 | 8320000 | 293000 | 300000 |